美国研究所委员会（CGS）9日公布一项调查报告显示，外国学生首度进入美国研究所的人数，经过前一年成长停滞后，在今年秋季微幅增加，其中并以中国学生增加20%，幅度最大。
据高等教育纪事报（The Chronicle of Higher Education）报导，在2009年至2010学年外国学生首度申请美国研究所的人数，共增加3%。
报告中说，今年秋季成长的塬因，主要是中国学生入学人数骤增，以及印度和南韩学生下滑稍微趋缓所致。这叁个国家是美国海外学生最大的来源。
报告并指出，中国学生入学人数是全面增加，而不论学校的规模和类型;来自中国的新学生人数增加20%，并且连续五年呈现两位数成长。美国所有研究所来自中国的入学学生，则增加13%。另外，中东的学生也增加7%，
此外，印度和南韩入学大幅减少的趋势，可能已停止。而来自这两个国家以及中国的学生，占了美国所有研究所国际学生的一半。
不过，包括旧生在内，整体外国学生入学率仅增加1%，是自2006年以来的最低增幅。该微幅增加的比率代表去年迟缓成长的入学人数。
这项在9月9日至10月22日向全美230个研究所进行的调查显示，各研究所之间也有明显差距，在外国学生最多的前100名研究所，外国学生首次入学人数增加5%，100名以外的研究所则毫无成长。
该报告作者、CGS研究和政策分析主任贝尔（Nathan Bell）表示，这类差距可能反映一些大学可能在外国学生的招生，投入更多的时间和预算。再者，许多前100名研究所具有「全球知名度」。加拿大华人网 http://www.sinoca.com/
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