实现超精加工的“纳米标准”
20世纪90年代，国内光学零件制造水平不高，大多采用“手工+机械抛光”的传统加工技术，对于大口径、高精度、复杂面形的光学零件我国制造能力有限，许多相关领域的技术进步常常要受困于此。
新世纪之初，正在做访问学者的国防科大精密工程创新团队李圣怡教授了解到，国外一所大学已在研发磁流变加工设备，回校后他便带领团队进行潜心研究，终于弄清了磁流变加工技术原理，论证了该技术在光学加工上的优势。于是，他们决定跳过一、二代的光学零件的制造加工技术，直接瞄准基于可控柔体制造的第三代光学加工方法，研制磁流变加工新技术。
5年夜以继日的奋力攻关，使他们终于研制成功我国首台达到纳米精度磁流变抛光装备。再接再厉，团队随后又研制成功离子束打抛光装备，终于突破了大型光学零件高效、高精度、无损伤制造的技术瓶颈，使我国超高精度光学零件加工进入到纳米精度的世界先进水平。
将光学零件面形精度峰谷值控制在5纳米以内。5纳米，意味着哪怕一个细菌就会导致整个面形崩溃，只能逐层分子、逐层分子地进行去除加工。国家的需求就是攻关方向，为此创新团队最终实现了5纳米的精度要求。
对高性能先进技术攻关
完美解决高速信号系统传输难题
高速信号传输是研制超级计算机系统的一项关键技术。2008年，国防科大网络技术创新团队承担了研制10万亿比特级IB交换机的攻关任务。在此之前，国内还没有解决这个关键技术的先例，美国也才刚刚做出样机。
“10万亿比特级IB交换机设计非常困难，没有我们的技术支持不可能实现，如果你们坚持采取正交互联技术方案，也必将以失败告终”。为验证外国专家的这一推论，团队经过试验发现，按照国际设计规范在正交互联的结构下确实不能保证10万亿比特级IB交换机信号的传输质量。
怎么办？是跟在别人后面亦步亦趋，还是闯出自己的技术路线？自主创新，就是要走别人没走过的路，“他们说不行，我们就做出来看！”
在无法获得技术支持的情况下，创新团队通过深入研究与技术攻关，终于发现了国际设计规范中的一个重要缺陷。于是，他们调整创新思路最终得到了全面的设计规范，其关键技术参数远远大于国际设计规范的技术指标。在不到一年时间，他们就研制成功了10万亿比特级IB交换机系统，并在“天河一号”超级计算机系统中得到成功应用。
在前不久召开的一次国际学术交流会上，当初预言他们“必将失败”的那位外国专家说：“没有想到你们如此完美地解决了高速信号系统传输的难题；没有想到你们这么快就研制成功了稳定可靠的先进系统。中国人，了不起！”
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